Bitte benutzen Sie diese Kennung, um auf die Ressource zu verweisen:
http://edoc.bseu.by:8080/handle/edoc/84164
Titel: | Исследование релаксации усилий в полушерстяных камвольных тканях при двухосном растяжении |
Sonstige Titel: | Research of Stress Relaxation in Half-Woolen Worsted Fabrics under Biaxial Tension |
Autoren: | Садовский, В. В. Гапонова, Т. А. Братченя, Л. О. Sadovskiy, V. V. Gaponova, T. A. Bratchenya, L. O. |
Stichwörter: | исследования;камвольная ткань;двухосное растяжение;релаксационные процессы;research;worsted cloth |
Erscheinungsdatum: | 2020 |
Herausgeber: | Белорусский государственный экономический университет |
Language: | Русский |
Type: | Article |
Zitierform: | Садовский, В. В. Исследование релаксации усилий в полушерстяных камвольных тканях при двухосном растяжении / В. В. Садовский, Т. А. Гапонова, Л. О. Братченя // Вестник Белорусского государственного экономического университета. - 2020. - № 3 - C. 47-56. |
Zusammenfassung: | Для проведения исследования было разработано устройство, позволяющее создавать различные варианты двухосной плоскостной деформации ткани, в том числе при воздействии температуры. Исследование показало, что релаксация усилия после двухосного деформирования тканей зависит от величины деформирования, волокнистого состава тканей, их состояния (сухое или влагонасыщенное) и температуры. For research purposes, a device was developed that allows creating different variants of biaxial plane deformation of a fabric, in particular, when exposed to temperature. The research showed that the process of stress relaxation after biaxial deformation of fabrics depends on the amount of deformation, the fibrous composition of fabrics, their state (dry or water-saturated) and temperature. |
URI: | http://edoc.bseu.by:8080/handle/edoc/84164 |
ISSN: | 1026-3578 |
Enthalten in den Sammlungen: | 2020, № 3 |
Dateien zu dieser Ressource:
Datei | Beschreibung | Größe | Format | |
---|---|---|---|---|
Sadovskiy_47_56.pdf | 269.89 kB | Adobe PDF | Öffnen/Anzeigen |
Alle Ressourcen in diesem Repository sind urheberrechtlich geschützt, soweit nicht anderweitig angezeigt.